<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?><rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom"><channel><title>大纲 on 罗辉昌的个人空间</title><link>https://www.luohuichang.com/tags/%E5%A4%A7%E7%BA%B2/</link><description>Recent content in 大纲 on 罗辉昌的个人空间</description><generator>Hugo -- gohugo.io</generator><language>zh-cn</language><lastBuildDate>Wed, 18 Mar 2026 00:00:00 +0000</lastBuildDate><atom:link href="https://www.luohuichang.com/tags/%E5%A4%A7%E7%BA%B2/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml"/><item><title>EUV技术洞察-大纲</title><link>https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F-%E5%A4%A7%E7%BA%B2/</link><pubDate>Wed, 18 Mar 2026 00:00:00 +0000</pubDate><guid>https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F-%E5%A4%A7%E7%BA%B2/</guid><description>&lt;h1 id="euv技术洞察-大纲"&gt;EUV技术洞察-大纲
&lt;/h1&gt;&lt;h3 id="文档目的"&gt;文档目的
&lt;/h3&gt;&lt;p&gt;本文档提供 ASML EUV 光刻机的完整技术大纲，方便快速查找各子系统和功能域的详细技术内容。&lt;/p&gt;
&lt;h3 id="适用背景"&gt;适用背景
&lt;/h3&gt;&lt;p&gt;本大纲基于《ASML EUV 子系统和功能域架构》文档，将各子系统链接到对应的详细技术洞察文件。&lt;/p&gt;
&lt;hr&gt;
&lt;h2 id="目录"&gt;目录
&lt;/h2&gt;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;第一部分：系统概述&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;第一部分：系统概述
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/asml-euv-%E5%AD%90%E7%B3%BB%E7%BB%9F%E5%92%8C%E5%8A%9F%E8%83%BD%E5%9F%9F%E6%9E%B6%E6%9E%84/" &gt;1. 系统概述 (System Overview)&lt;/a&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;1.1 EUV 光刻机整体架构&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;1.2 子系统与功能域&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;1.3 光刻流程概述&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;p&gt;&lt;strong&gt;第二部分：子系统详述&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;第二部分：子系统详述
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E5%85%89%E6%BA%90%E7%B3%BB%E7%BB%9F/" &gt;2. 光源系统 (Light Source System)&lt;/a&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;2.1 子系统概述&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;2.2 EUV 光源控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;2.3 能量稳定性控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;2.4 波长稳定性控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;2.5 热管理&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;2.6 跨子系统接口&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E6%8E%A9%E8%86%9C%E5%8F%B0%E7%B3%BB%E7%BB%9F/" &gt;3. 掩膜台系统 (Reticle Stage System)&lt;/a&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;3.1 子系统概述&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;3.2 精密定位控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;3.3 高速扫描控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;3.4 温度控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;3.5 掩膜装载与对准&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;3.6 掩膜夹持系统&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;3.7 跨子系统接口&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E6%8A%95%E5%BD%B1%E5%85%89%E5%AD%A6%E7%B3%BB%E7%BB%9F/" &gt;4. 投影光学系统 (Projection Optics System)&lt;/a&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;4.1 子系统概述&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;4.2 EUV 投影物镜&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;4.3 像差校正&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;4.4 焦距控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;4.5 光学性能监测&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;4.6 热变形补偿&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;4.7 跨子系统接口&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E6%99%B6%E5%9C%86%E5%8F%B0%E7%B3%BB%E7%BB%9F/" &gt;5. 晶圆台系统 (Wafer Stage System)&lt;/a&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;5.1 子系统概述&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;5.2 双工作台设计&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;5.3 精密定位控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;5.4 晶圆装载与对准&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;5.5 温度控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;5.6 晶圆夹持系统&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;5.7 跨子系统接口&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E8%AE%A1%E9%87%8F%E7%B3%BB%E7%BB%9F/" &gt;6. 计量系统 (Metrology System)&lt;/a&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;6.1 子系统概述&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;6.2 干涉测量系统&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;6.3 对准传感器系统&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;6.4 光学性能检测系统&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;6.5 传感器采集与标定&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;6.6 跨子系统接口&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E5%89%82%E9%87%8F%E6%8E%A7%E5%88%B6%E7%B3%BB%E7%BB%9F/" &gt;7. 剂量控制系统 (Dose Control System)&lt;/a&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;7.1 子系统概述&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;7.2 源端剂量控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;7.3 传输路径剂量控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;7.4 场内剂量均匀性控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;7.5 剂量监测系统&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;7.6 剂量控制算法&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;7.7 剂量控制与工艺性能&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;7.8 跨子系统接口&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E5%85%89%E5%AD%A6%E7%B3%BB%E7%BB%9F%E6%8E%A7%E5%88%B6/" &gt;8. 光学系统控制 (Optical System Control)&lt;/a&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;7.1 子系统概述&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;7.2 照明控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;7.3 偏振控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;7.4 光束指向控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;7.5 光学性能监测&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;7.6 跨子系统接口&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E6%99%B6%E5%9C%86%E4%BC%A0%E8%BE%93%E7%B3%BB%E7%BB%9F/" &gt;9. 晶圆传输系统 (Wafer Handling System)&lt;/a&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;9.1 子系统概述&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;9.2 FOUP 装载/卸载&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;9.3 晶圆传输机械手&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;9.4 晶圆台传输&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;9.5 传输路径规划&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;9.6 洁净度控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;9.7 跨子系统接口&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E6%8E%A9%E8%86%9C%E4%BC%A0%E8%BE%93%E7%B3%BB%E7%BB%9F/" &gt;10. 掩膜传输系统 (Reticle Handling System)&lt;/a&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;10.1 子系统概述&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;10.2 RSP 装载/卸载&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;10.3 掩膜传输机械手&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;10.4 掩膜台传输&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;10.5 传输路径规划&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;10.6 洁净度控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;10.7 跨子系统接口&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E7%8E%AF%E5%A2%83%E4%B8%8E%E5%9F%BA%E7%A1%80%E8%AE%BE%E6%96%BD/" &gt;11. 环境与基础设施 (Environment &amp;amp; Infrastructure)&lt;/a&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;11.1 子系统概述&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;11.2 冷却系统&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;11.3 真空系统&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;11.4 气体系统&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;11.5 洁净度控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;11.6 振动控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;11.7 跨子系统接口&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;p&gt;&lt;strong&gt;第四部分：跨子系统功能&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;第四部分：跨子系统功能
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;
&lt;ol start="11"&gt;
&lt;li&gt;系统时序与调度 (System Timing &amp;amp; Scheduling)&lt;/li&gt;
&lt;/ol&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;11.1 子系统概述&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;11.2 时钟系统&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;11.3 时序控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;11.4 调度系统&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;11.5 状态机管理&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;11.6 事件处理&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;11.7 跨子系统接口&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;
&lt;ol start="12"&gt;
&lt;li&gt;工艺与配方管理 (Process &amp;amp; Recipe Management)&lt;/li&gt;
&lt;/ol&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;12.1 子系统概述&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;12.2 Recipe 编辑&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;12.3 Recipe 校验&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;12.4 Recipe 存储&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;12.5 Recipe 执行&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;12.6 版本管理&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;12.7 权限管理&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;12.8 跨子系统接口&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;
&lt;ol start="13"&gt;
&lt;li&gt;校准与维护 (Calibration &amp;amp; Maintenance)&lt;/li&gt;
&lt;/ol&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;13.1 子系统概述&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;13.2 系统校准&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;13.3 光学校准&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;13.4 运动校准&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;13.5 量测校准&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;13.6 寿命管理&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;13.7 维护计划&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;13.8 跨子系统接口&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;
&lt;ol start="14"&gt;
&lt;li&gt;数据、诊断与健康管理 (Data, Diagnostics &amp;amp; Health Management)&lt;/li&gt;
&lt;/ol&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;14.1 子系统概述&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;14.2 数据采集&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;14.3 数据存储&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;14.4 数据分析&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;14.5 设备健康监测&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;14.6 故障诊断&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;14.7 数据追溯&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;14.8 远程诊断&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;14.9 跨子系统接口&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;
&lt;ol start="15"&gt;
&lt;li&gt;工厂自动化接口 (Factory Automation Interface)&lt;/li&gt;
&lt;/ol&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;15.1 子系统概述&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;15.2 SECS/GEM 协议&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;15.3 GEM 状态模型&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;15.4 主要功能&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;p&gt;&lt;strong&gt;第五部分：技术演进与展望&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;第五部分：技术演进与展望
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;
&lt;ol start="16"&gt;
&lt;li&gt;技术趋势&lt;/li&gt;
&lt;/ol&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;16.1 AI 与机器学习集成&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;16.2 数字孪生&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;16.3 边缘计算与云协同&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;16.4 5G 与低延迟通信&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;
&lt;ol start="17"&gt;
&lt;li&gt;产品演进路线&lt;/li&gt;
&lt;/ol&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;17.1 短期目标（2026-2027）&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;17.2 中期目标（2028-2029）&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;17.3 长期目标（2030+）&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;p&gt;&lt;strong&gt;附录&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;附录
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;附录 A：软件架构设计&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;附录 B：交叉子系统关系矩阵&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;附录 C：术语表&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;附录 D：参考标准&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;hr&gt;
&lt;h2 id="子系统快速导航"&gt;子系统快速导航
&lt;/h2&gt;&lt;h3 id="核心硬件子系统"&gt;核心硬件子系统
&lt;/h3&gt;&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E5%85%89%E6%BA%90%E7%B3%BB%E7%BB%9F/" &gt;光源系统&lt;/a&gt; - 产生 13.5nm EUV 光源&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E6%8E%A9%E8%86%9C%E5%8F%B0%E7%B3%BB%E7%BB%9F/" &gt;掩膜台系统&lt;/a&gt; - 承载掩膜进行高速扫描&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E6%8A%95%E5%BD%B1%E5%85%89%E5%AD%A6%E7%B3%BB%E7%BB%9F/" &gt;投影光学系统&lt;/a&gt; - 4x 缩小成像到晶圆&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E6%99%B6%E5%9C%86%E5%8F%B0%E7%B3%BB%E7%BB%9F/" &gt;晶圆台系统&lt;/a&gt; - 承载晶圆进行高精度运动&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E8%AE%A1%E9%87%8F%E7%B3%BB%E7%BB%9F/" &gt;计量系统&lt;/a&gt; - 实时测量与校准系统状态&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;h3 id="传输与控制子系统"&gt;传输与控制子系统
&lt;/h3&gt;&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E5%89%82%E9%87%8F%E6%8E%A7%E5%88%B6%E7%B3%BB%E7%BB%9F/" &gt;剂量控制系统&lt;/a&gt; - 源端、传输路径和场内剂量控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E6%99%B6%E5%9C%86%E4%BC%A0%E8%BE%93%E7%B3%BB%E7%BB%9F/" &gt;晶圆传输系统&lt;/a&gt; - FOUP 到晶圆台的自动传输&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E6%8E%A9%E8%86%9C%E4%BC%A0%E8%BE%93%E7%B3%BB%E7%BB%9F/" &gt;掩膜传输系统&lt;/a&gt; - RSP 到掩膜台的自动传输&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E5%85%89%E5%AD%A6%E7%B3%BB%E7%BB%9F%E6%8E%A7%E5%88%B6/" &gt;光学系统控制&lt;/a&gt; - 照明、偏振、光束指向控制&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;&lt;a class="link" href="https://www.luohuichang.com/posts/euv%E6%8A%80%E6%9C%AF%E6%B4%9E%E5%AF%9F%E7%8E%AF%E5%A2%83%E4%B8%8E%E5%9F%BA%E7%A1%80%E8%AE%BE%E6%96%BD/" &gt;环境与基础设施&lt;/a&gt; - 冷却、真空、气体、洁净度&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;h3 id="跨子系统功能"&gt;跨子系统功能
&lt;/h3&gt;&lt;p&gt;详细内容请参考《EUV技术洞察-ASML子系统和功能域架构》文档：&lt;/p&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;系统时序与调度&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;工艺与配方管理&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;校准与维护&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;数据、诊断与健康管理&lt;/li&gt;
&lt;li&gt;工厂自动化接口&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;hr&gt;
&lt;p&gt;&lt;strong&gt;最后更新：&lt;/strong&gt; 2026-03-18&lt;br&gt;
&lt;strong&gt;生成工具：&lt;/strong&gt; OpenClaw Booker Agent&lt;br&gt;
&lt;strong&gt;文档版本：&lt;/strong&gt; V1.0&lt;/p&gt;</description></item></channel></rss>